北京泰科诺科技有限公司
企业简介
  北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。 公司坐落于北京市昌平区西辛峰工业园区,占地面积20000余平方米,生产面积达11000余平方米,建有研发工艺、服务客户的开放实验室。技术力量雄厚,主要技术骨干来源于中科院及国内知名的真空企业和自动化控制行业,并聘国内外多位知名专家作为为本公司的技术顾问,具备较强的自主研发能力,始终保持技术优势,通过ISO 9001/CE等多项认证,拥有多项真空专利技术。现有员工120余人,其中博士以上学历2名,硕士以上学历4名,大专以上学历55人。 公司在真空镀膜设备和真空应用设备的研发和制造上处于行业地位,如联合高校、中科院所共同研发的粉体颗粒表面镀膜设备、异形体表面镀膜设备、热丝CVD金刚石生长设备、真空升华提纯设备等,其中有多种产品。公司自主生产的真空产品共有八大类,涵盖低真空、高真空、超高真空的上百品种,广泛应用于大专院校、科研院所的教学、实验;企业的产品研发、产品中试及批量生产。产品已经覆盖全国的28个省市,有超过550台设备在运行,而且远销美国、土耳其、哈萨克斯坦、朝鲜等国,深受用户的好评。
北京泰科诺科技有限公司的工商信息
  • 110114005812638
  • 9111011475217349XB
  • 开业
  • 有限责任公司(自然人投资或控股)
  • 2003-07-04
  • 彭建
  • 1600 万元 人民币
  • 2003-07-04 至 永久
  • 昌平分局
  • 北京市昌平区崔村镇西辛峰村南6区1号
  • 生产组装磁控溅射镀膜设备、电阻加热蒸发镀膜机、化学气象沉积镀膜机、多功能镀膜机、真空冶炼炉、DEQ-400气体放电等离子体测试装置;磁控溅射镀膜设备、电阻加热蒸发镀膜机、化学气象沉积镀膜机、多功能镀膜机、真空冶炼炉、DEQ-400气体放电等离子体测试装置的技术开发;销售机械设备、仪器仪表、电子产品;...
北京泰科诺科技有限公司的商标信息
序号 注册号 商标 商标名 申请时间 商品服务列表 内容
1 7994202 泰科诺 2010-01-14 教学仪器;物理学设备和仪器;实验室用炉;气体检测仪;传感器;调压器;稳压电源;低压电源;真空喷镀机械;非空气处理电离设备 查看详情
2 7994205 TECHNOL 2010-01-14 气动元件;压缩机(机器);空气压缩机;电子工业设备 查看详情
3 7994204 TECHNOL 2010-01-14 教学仪器;物理学设备和仪器;实验室用炉;气体检测仪 查看详情
北京泰科诺科技有限公司的专利信息
序号 公布号 发明名称 公布日期 摘要
1 CN106119800A 一种镀膜机 2016.11.16 本发明公开了一种镀膜机,包括装料机构、真空炉、传动输送机构、溅射靶组、真空抽吸组及控制中心,装料机构
2 CN103557710B 一种快速循环气冷真空炉 2016.06.15 本发明是一种快速循环气冷真空炉,包括快速循环气冷真空炉及其快速循环气冷系统,本快速循环气冷真空炉应用
3 CN206127409U 一种镀膜机 2017.04.26 本实用新型公开了一种镀膜机,包括装料机构、真空炉、传动输送机构、溅射靶组、真空抽吸组及控制中心,装料
4 CN104388905B 一种用于真空杯内壁镀膜的二极溅射镀膜设备 2017.01.25 本发明公开了一种用于真空杯内壁镀膜的二极溅射镀膜设备,包括支架、溅射镀膜装置、真空装置,其中溅射镀膜
5 CN103556131B 一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台 2016.08.17 本发明公开了一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台,属于材料制备加工领域。本发明改进了加热式沉积台的设
6 CN103536245B 一种净化车间专用吸尘器 2015.12.09 本发明是一种净化车间专用吸尘器。属于生物医药、紧密加工与机械领域。通过将净化车间专用吸尘器的吸尘与积
7 CN204251704U 一种用于连续真空蒸镀的自动送料装置 2015.04.08 本实用新型涉及一种用于连续真空蒸镀的自动送料装置,属于真空镀膜和表面加工领域,可应用于各种真空蒸镀设
8 CN204251694U 一种用于真空杯内壁镀膜的二极溅射镀膜设备 2015.04.08 本实用新型公开了一种用于真空杯内壁镀膜的二极溅射镀膜设备,包括支架、溅射镀膜装置、真空装置,其中溅射
9 CN104388909A 一种用于连续真空蒸镀的自动送料装置 2015.03.04 本发明涉及一种用于连续真空蒸镀的自动送料装置,属于真空镀膜和表面加工领域,可应用于各种真空蒸镀设备的
10 CN104388905A 一种用于真空杯内壁镀膜的二极溅射镀膜设备 2015.03.04 本发明公开了一种用于真空杯内壁镀膜的二极溅射镀膜设备,包括支架、溅射镀膜装置、真空装置,其中溅射镀膜
11 CN203625466U 一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台 2014.06.04 本实用新型公开了一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台,属于材料制备加工领域。本实用新型改进了加热式沉
12 CN203534207U 一种快速循环气冷真空炉 2014.04.09 本实用新型是一种快速循环气冷真空炉,包括快速循环气冷真空炉及其快速循环气冷系统,本快速循环气冷真空炉
13 CN203524579U 一种净化车间专用吸尘器 2014.04.09 本实用新型是一种净化车间专用吸尘器。属于生物医药、紧密加工与机械领域。通过将净化车间专用吸尘器的吸尘
14 CN103556131A 一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台 2014.02.05 本发明公开了一种用于化学气相沉积的高温加热沉积台,属于材料制备加工领域。本发明改进了加热式沉积台的设
15 CN103557710A 一种快速循环气冷真空炉 2014.02.05 本发明是一种快速循环气冷真空炉,包括快速循环气冷真空炉及其快速循环气冷系统,本快速循环气冷真空炉应用
16 CN103536245A 一种净化车间专用吸尘器 2014.01.29 本发明是一种净化车间专用吸尘器。属于生物医药、紧密加工与机械领域。通过将净化车间专用吸尘器的吸尘与积
17 CN101865848B 等离子体发射光谱法测定熏蒸罐中溴甲烷浓度的方法及装置 2012.05.30 本发明涉及等离子体发射光谱法测定熏蒸罐中溴甲烷浓度的方法及装置。本发明涉及一种流体机械,是一种在无外
18 CN201688007U 可调节式真空限流阀 2010.12.29 本实用新型属于流体阀门技术领域,尤其涉及一种可调节式真空限流阀。用运于真空腔室和真空泵系统之间的限流
19 CN101865848A 等离子体发射光谱法测定熏蒸罐中溴甲烷浓度的方法及装置 2010.10.20 本发明涉及等离子体发射光谱法测定熏蒸罐中溴甲烷浓度的方法及装置。本发明涉及一种流体机械,是一种在无外
20 CN101846190A 可调节式真空限流阀 2010.09.29 本发明属于流体阀门技术领域,尤其涉及一种可调节式真空限流阀。用于真空腔室和真空泵系统之间的限流阀,对
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